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Megaevento de arte y tecnología reúne obras de Duchamp, Yoko Ono, Dalí, Hito Steyerl y más
POR REDACCIÓN
12 de enero de 2020
Más de cien obras de artistas destacados de todos los tiempos y de diversas disciplinas como Joseph Beuys, Marcel Duchamp, Yoko Ono, Hito Steyerl y Salvador Dalí formarán parte de la Trienal de Arte y Tecnología que se celebra desde el 20 de febrero en la Central Academy of Fine Arts Museum (Cafam) de Beijing, China. Se trata de la edición inaugural del evento curado por Zhang Ga, que reunirá en total obras de 130 artistas de 28 países, agrupados en dos exposiciones: "Topologías de lo real" y "Arte en movimiento", abiertas al público hasta el 29 de marzo de 2020, informaron los organizadores a través de un comunicado. La exposición "Topologías de lo real" indaga en cómo la imaginación artística ha desafiado y redefinido la noción de realidad bajo la construcción tecnológica del espacio-tiempo. En tanto, el apartado de "Arte en movimiento" bucea en la historia del arte de los medios y la evolución de los dispositivos técnicos, y fue organizado junto con la institución alemana ZKM (Centro de Arte y Medios Tecnológicos de Karlsruhe). Entre las obras a presentarse destacan las de Nam June Paik, Jim Campbell, Douglas Davis, John Cage, Dan Graham, Laurent Grasso, Jenny Holzer, Philippe Parreno, Bertolt Brecht, Luis Buñuel, Jean-Luc Godard, Mona Hatoum, Eduardo Kac, László Moholy-Nagy, Man Ray, Richard Serra y Katsuhiro Yamagucchi, entre muchos otros. La Trienal desplegará sus exposiciones en la totalidad del museo ubicado en Beijing, un imponente edificio diseñado por el célebre arquitecto japonés Arata Isozaki, que consta de seis niveles, 24 metros de alto y una superficie de 3.500 metros cuadrados.
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